688012，创新力爆棚，六款半导体设备新品来了
9月4日，中微公司（688012）在第十三届半导体设备与核心部件及材料展（CSEAC2025）上宣布推出六款半导体设备新产品，覆盖等离子体刻蚀（Etch）、原子层沉积（ALD）及外延（EPI）等关键工艺。具体来看，在刻蚀技术方面，中微公司此次发布的两款新品，CCP电容性高能等离子体刻蚀机Prim...
9月4日，中微公司（688012）在第十三届半导体设备与核心部件及材料展（CSEAC2025）上宣布推出六款半导体设备新产品，覆盖等离子体刻蚀（Etch）、原子层沉积（ALD）及外延（EPI）等关键工艺。具体来看，在刻蚀技术方面，中微公司此次发布的两款新品，CCP电容性高能等离子体刻蚀机Prim...